ຂາຍສົ່ງ AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made ຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ |ອຸດົມສົມບູນ

ອະລູມິນຽມຊິລິໂຄນ

AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom made Featured Image

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ປະເພດ	Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ
ສູດເຄມີ	AlSi
ອົງປະກອບ	ອະລູມິນຽມຊິລິໂຄນ
ຄວາມບໍລິສຸດ	99.9%, 99.95%, 99.99%
ຮູບຮ່າງ	ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ
ຂະບວນການຜະລິດ	ການລະລາຍສູນຍາກາດ, PM
ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້	L≤2000mm, W≤200mm

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍສິນຄ້າ

ອະລູມິນຽມ Silicon Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄໍາອະທິບາຍ

ເປົ້າຫມາຍໄດ້ຖືກກະກຽມໂດຍການຜະສົມຜົງອາລູມິນຽມແລະຊິລິໂຄນຕາມດ້ວຍການບີບອັດເພື່ອໃຫ້ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນຢ່າງເຕັມທີ່.ວັດສະດຸທີ່ຫນາແຫນ້ນດັ່ງນັ້ນຈຶ່ງຖືກ sintered ທາງເລືອກແລະຖືກສ້າງຕັ້ງຂຶ້ນເປັນຮູບຮ່າງທີ່ຕ້ອງການ.Aluminum Silicon sputtering ຂອງພວກເຮົາແມ່ນມີຢູ່ໃນຮູບສີ່ຫລ່ຽມ, ວົງຫຼືຮູບເລຂາຄະນິດທີ່ເຮັດເອງ, ເນື້ອໃນອະລູມິນຽມຈາກ 10-90% ປະລໍາມະນູ, ແລະມີຄຸນສົມບັດທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ໂຄງສ້າງຈຸລະພາກທີ່ເປັນເອກະພາບ, ຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງແລະຊີວິດການເຮັດວຽກທີ່ຍາວນານ.

ອະລູມິນຽມຊິລິໂຄນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາລົດຍົນ, ເຮືອບິນແລະການກໍ່ສ້າງສໍາລັບການປະສົມປະສານທີ່ເປັນເອກະລັກຂອງຄຸນລັກສະນະທີ່ຕ້ອງການ, ລວມທັງນ້ໍາຫນັກເບົາ, ການນໍາຄວາມຮ້ອນທີ່ດີແລະຄຸນສົມບັດກົນຈັກ.ຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງວັດສະດຸນີ້ແມ່ນ 2.6 ~ 2.7g / cm3, ຕົວຄູນ conductivity ຄວາມຮ້ອນ 101 ~ 126W / (m·℃), tensile modulus 71.0Gpa, ຈໍາກັດຄວາມເມື່ອຍລ້າ ± 45MPa.ໂລຫະປະສົມອາລູມິນຽມ-ຊິລິໂຄນຍັງມີຄວາມທົນທານຕໍ່ການກັດກ່ອນ, ເຄື່ອງຈັກ, ແລະການເຊື່ອມໂລຫະທີ່ດີເລີດ.ໂລຫະປະສົມອາລູມີນຽມ-ຊິລິໂຄນແມ່ນໃຊ້ໃນຫຼາຍປະເພດຂອງເຄື່ອງຈັກໃນຍານຍົນ, ຍານອາວະກາດ, ແລະເຄື່ອງບໍລິໂພກ, ເຊັ່ນ: ເຄື່ອງຈັກ ແລະທໍ່ກະບອກສູບ, ລູກສູບ, ວັດສະດຸໂລຫະປະສົມລູກປືນ, ແລະອົງປະກອບເຄື່ອງໃຊ້ໄຟຟ້າ.+2.ມັນມີຈຸດ melting ສູງ, ductility, ແຂງ, ແລະການຕໍ່ຕ້ານ corrosion.

ອະລູມິນຽມ Silicon Sputtering ການຫຸ້ມຫໍ່ເປົ້າຫມາຍ

ເປົ້າໝາຍອາລູມີນຽມຊິລິໂຄນຂອງພວກເຮົາຖືກຕິດປ້າຍໄວ້ຢ່າງຈະແຈ້ງ ແລະຕິດສະຫຼາກຈາກພາຍນອກເພື່ອຮັບປະກັນການກໍານົດຕົວຕົນທີ່ມີປະສິດທິພາບ ແລະການຄວບຄຸມຄຸນນະພາບ.ມີຄວາມລະມັດລະວັງຫຼາຍເພື່ອຫຼີກລ່ຽງຄວາມເສຍຫາຍທີ່ອາດຈະເກີດຂຶ້ນໃນລະຫວ່າງການເກັບຮັກສາ ຫຼືການຂົນສົ່ງ.

ໄດ້ຮັບການຕິດຕໍ່

ເປົ້າໝາຍອາລູມິນຽມຊິລິໂຄນຂອງ RSM ແມ່ນມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແລະເປັນເອກະພາບ.ພວກເຂົາເຈົ້າມີຢູ່ໃນຮູບແບບຕ່າງໆ, ຄວາມບໍລິສຸດ, ຂະຫນາດ, ແລະລາຄາ.ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດວັດສະດຸເຄືອບຟິມບາງທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງດ້ວຍປະສິດທິພາບທີ່ດີເລີດເຊັ່ນດຽວກັນກັບຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງເມັດພືດສະເລ່ຍຂະຫນາດນ້ອຍທີ່ສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນການເຄືອບ mold, ການຕົກແຕ່ງ, ຊິ້ນສ່ວນລົດໃຫຍ່, ແກ້ວຕ່ໍາ E, ວົງຈອນປະສົມປະສານ semi-conductor, ຮູບເງົາບາງໆ. ຄວາມຕ້ານທານ, ຈໍສະແດງຜົນກາຟິກ, ຍານອາວະກາດ, ການບັນທຶກແມ່ເຫຼັກ, ຫນ້າຈໍສໍາຜັດ, ຫມໍ້ໄຟແສງຕາເວັນຮູບເງົາບາງໆແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອື່ນໆຂອງ vapor deposition (PVD).ກະລຸນາສົ່ງພວກເຮົາສອບຖາມສໍາລັບລາຄາໃນປະຈຸບັນກ່ຽວກັບເປົ້າຫມາຍ sputtering ແລະອຸປະກອນການເງິນຝາກອື່ນໆທີ່ບໍ່ມີຢູ່ໃນລາຍການ.

ທີ່ຜ່ານມາ: CrAl Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ PVD ເຄືອບບາງໆ Custom Made

ຕໍ່ໄປ: AlSiCu Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made