CrW Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

ເປົ້າໝາຍຖືກກະກຽມໂດຍການຜະສົມຜົງ Chronium ແລະ Tungsten ຫຼືການລະລາຍສູນຍາກາດຕາມມາດ້ວຍການບີບອັດໃຫ້ມີຄວາມໜາແໜ້ນເຕັມທີ່.ວັດສະດຸທີ່ຫນາແຫນ້ນດັ່ງນັ້ນຈຶ່ງຖືກ sintered ທາງເລືອກແລະຖືກສ້າງຕັ້ງຂຶ້ນເປັນຮູບຮ່າງທີ່ຕ້ອງການ.

Chrome Tungsten sputtering ເປົ້າ​ຫມາຍ​ມີ​ຄວາມ​ບໍ​ລິ​ສຸດ​ສູງ​, ໂຄງ​ປະ​ກອບ​ຈຸ​ລະ​ພາກ​ເປັນ​ເອ​ກະ​ລັກ​, ຄວາມ​ຫນາ​ແຫນ້ນ​ສູງ​ແລະ​ຂະ​ຫນາດ​ເມັດ​ທີ່​ປັບ​ໄຫມ​.ມັນສາມາດຖືກຜະລິດເປັນຂະຫນາດໃຫຍ່ໂດຍ HIP.ການເຄືອບ Cr-W ແມ່ນດີເລີດສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຈໍານວນຫນຶ່ງ, ເນື່ອງຈາກການຕໍ່ຕ້ານ corrosion, ຄວາມແຂງ, ຄວາມເຂັ້ມແຂງ dielectric ແລະກະແສໄຟຟ້າຂັ້ນຕ່ໍາ.

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນແມ່ນຜູ້ຜະລິດ Sputtering ເປົ້າຫມາຍສາມາດຜະລິດ Chronium Tungsten Sputtering Materials ຕາມການກໍານົດຂອງລູກຄ້າ.ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.