AlZn Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ PVD Coating Custom Made

ຮູບແບບສັງກະສີທີ່ບໍລິສຸດມັກຈະຖືກໃຊ້ໃນການຫຼໍ່ດ້ວຍຊິ້ນສ່ວນນ້ອຍໆໃນປະລິມານຫຼາຍ ເນື່ອງຈາກມີແຮງໂນ້ມຖ່ວງສະເພາະສູງ, ແຕ່ມັນບໍ່ຖືກໃຈສຳລັບການນຳໃຊ້ຫຼາຍປະເພດ ເພາະຖືວ່າເປັນໂລຫະທີ່ອ່ອນເພຍ, ມີຄວາມເຂັ້ມແຂງ tensile ໜ້ອຍກວ່າເຫຼັກກ້າເຖິງ 50 ເປີເຊັນ. .ເພື່ອຫຼຸດຜ່ອນຄຸນສົມບັດທາງລົບຂອງສັງກະສີ, ເຊັ່ນ: ມັນມີຄວາມເຂັ້ມແຂງ tensile ຕ່ໍາແລະ brittleness, ມັນມັກຈະຖືກລວມເຂົ້າກັບອັດຕາສ່ວນທີ່ແນ່ນອນຂອງອາລູມິນຽມ.ໂລຫະປະສົມ AlZn ສະແດງໃຫ້ເຫັນຄວາມເຂັ້ມແຂງທີ່ດີ, ຄວາມແຂງ, ເກິດ, ຄຸນສົມບັດການທໍາລາຍກົນຈັກແລະການປະຕິບັດແມ່ພິມແລະຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຫຼາຍໆອຸດສາຫະກໍາ, ລວມທັງ bearing, ການຫລໍ່ຕາຍ, ນ້ໍາມັນແລະອາຍແກັສ, ຍານອາວະກາດແລະ turbine.

ຟິມບາງໆຂອງອາລູມີນຽມ doped zinc oxide (AZO) ສາມາດຖືກສ້າງຕັ້ງຂື້ນໃນລະຫວ່າງຂັ້ນຕອນການຊຶມເຊື້ອຂອງ Aluminum Zinc sputtering target.ມັນຖືກນໍາໃຊ້ໃນແກ້ວຕ່ໍາ E, ແຜງສໍາຜັດ, ອຸດສາຫະກໍາ LCD.ເປົ້າຫມາຍສັງກະສີອາລູມິນຽມມີປະໂຫຍດອັນໃຫຍ່ຫຼວງເມື່ອທຽບກັບເປົ້າຫມາຍຂອງເຄື່ອງປັ້ນດິນເຜົາເຊລາມິກສໍາລັບຂະຫນາດທີ່ມີຂະຫນາດໃຫຍ່.

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດ Sputtering ເປົ້າຫມາຍແລະສາມາດຜະລິດວັດສະດຸອະລູມິນຽມສັງກະສີ Sputtering ຕາມຂໍ້ກໍາຫນົດຂອງລູກຄ້າ.ຜະລິດຕະພັນຂອງພວກເຮົາມີຄຸນສົມບັດກົນຈັກທີ່ດີເລີດ, ໂຄງສ້າງທີ່ເປັນເອກະພາບ, ພື້ນຜິວຂັດໂດຍບໍ່ມີການແຍກ, ຮູຂຸມຂົນຫຼືຮອຍແຕກ.ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.