AlTa Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ໜັງບາງໆ PVD Coating Custom Made

ເປົ້າໝາຍຖືກກະກຽມໂດຍການຜະສົມຜົງອາລູມີນຽມ ແລະ ທາລູມ ຫຼື ການລະລາຍສູນຍາກາດຕາມດ້ວຍການບີບອັດໃຫ້ມີຄວາມໜາແໜ້ນເຕັມທີ່.ວັດສະດຸທີ່ຫນາແຫນ້ນດັ່ງນັ້ນຈຶ່ງຖືກ sintered ທາງເລືອກແລະຖືກສ້າງຕັ້ງຂຶ້ນເປັນຮູບຮ່າງທີ່ຕ້ອງການ.

ເປົ້າຫມາຍ sputtering ອະລູມິນຽມ Tantalum ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ໂຄງສ້າງຈຸນລະພາກທີ່ເປັນເອກະພາບແລະການປະຕິບັດທີ່ດີເລີດ.ມັນຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການສ້າງຮູບເງົາບາງໆສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາການສະແດງກະດານຮາບພຽງ.ອະລູມິນຽມ Tantalum ຍັງສາມາດຖືກເພີ່ມເຂົ້າໃນການຜະລິດໂລຫະປະສົມ Titanium ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງເພື່ອປັບປຸງຄວາມເຫມາະສົມກັບອຸນຫະພູມສູງຂອງມັນ.