ຂາຍສົ່ງ NiCrAlY Sputtering Target ຄວາມບໍລິສຸດສູງບາງໆເຄືອບ Pvd ຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ |ອຸດົມສົມບູນ

Nickel Chromium ອະລູມິນຽມ Yttrium

NiCrAlY Sputtering Target ຄວາມບໍລິສຸດສູງການເຄືອບ Pvd ຮູບເງົາບາງໆ Custom Made ຮູບພາບທີ່ໂດດເດັ່ນ

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ປະເພດ	Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ
ສູດເຄມີ	NiCrAlY
ອົງປະກອບ	Nickel Chromium ອະລູມິນຽມ Yttrium
ຄວາມບໍລິສຸດ	99.5%, 99.7%, 99.9%, 99.95%
ຮູບຮ່າງ	ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ
ຂະບວນການຜະລິດ	ການລະລາຍສູນຍາກາດ
ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້	L≤200mm,W≤200mm

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍສິນຄ້າ

ວິດີໂອ

Nickel Chromium ອະລູມິນຽມ Yttrium Sputtering ຄໍາອະທິບາຍເປົ້າຫມາຍ

NiCrAlY Sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນຜະລິດໂດຍການລະລາຍສູນຍາກາດຂອງວັດຖຸດິບຂອງ Nickel Chromium Aluminum Yttrium.ມັນມີຄວາມສອດຄ່ອງສູງແລະຂະຫນາດເມັດດີແລະບໍ່ມີຮູຂຸມຂົນ.ອົງປະກອບຂອງ Chromium ຕັ້ງແຕ່ 10-30% (wt), ອະລູມິນຽມ 10-20% (wt), Yttrium 0.5-1.0% (wt), ແລະເຮັດໃຫ້ໂຄງສ້າງສອງຊັ້ນຂອງγ+β.
ຊັ້ນ NiCrAlY ມັກຖືກໃຊ້ເປັນເຄື່ອງເຄືອບປ້ອງກັນຄວາມຮ້ອນ.ການກັດກ່ອນອຸນຫະພູມສູງຫມາຍເຖິງການໂຈມຕີທາງເຄມີຂອງທາດເຫຼັກທີ່ສ້າງເປັນ Chromia, Nickel ແລະ Cobalt-base Alloys ຈາກອາຍແກັສ, ເກືອແຂງຫຼື molten, ຫຼືໂລຫະ molten, ໂດຍປົກກະຕິຢູ່ໃນອຸນຫະພູມສູງກວ່າ 400 ° C (750ºF).ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງຊັ້ນ NiCrAlY ທີ່ໃຊ້ໃນໂລຫະປະສົມຂັ້ນຕອນອຸນຫະພູມສູງຂອງເຮືອບິນແລະກັງຫັນອາຍແກັສສາມາດປັບປຸງປະສິດທິພາບຕ້ານ corrosion ແລະຍືດອາຍຸຜະລິດຕະພັນ.

Nickel Chromium ອະລູມິນຽມ Yttrium Sputtering ການຫຸ້ມຫໍ່ເປົ້າຫມາຍ

ຂອງພວກເຮົາ Nickel Chromium ອະລູມິນຽມ Yttriumsputter ເປົ້າຫມາຍຖືກຕິດປ້າຍໄວ້ຢ່າງຈະແຈ້ງ ແລະຕິດສະຫຼາກພາຍນອກເພື່ອຮັບປະກັນການກໍານົດຕົວຕົນ ແລະການຄວບຄຸມຄຸນນະພາບຢ່າງມີປະສິດທິພາບ.ມີຄວາມລະມັດລະວັງຫຼາຍເພື່ອຫຼີກລ່ຽງຄວາມເສຍຫາຍທີ່ອາດຈະເກີດຂຶ້ນໃນລະຫວ່າງການເກັບຮັກສາ ຫຼືການຂົນສົ່ງ.

ໄດ້ຮັບການຕິດຕໍ່

ເປົ້າໝາຍສະເປເຕີຂອງອາລູມີນຽມ Nickel Chromium Yttrium ຂອງ RSM ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແລະ ເປັນເອກະພາບ.ພວກເຂົາເຈົ້າມີຢູ່ໃນຮູບແບບຕ່າງໆ, ຄວາມບໍລິສຸດ, ຂະຫນາດ, ແລະລາຄາ.ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດວັດສະດຸເຄືອບຟິມບາງທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງດ້ວຍປະສິດທິພາບທີ່ດີເລີດເຊັ່ນດຽວກັນກັບຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງເມັດພືດສະເລ່ຍຂະຫນາດນ້ອຍທີ່ສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນການເຄືອບ mold, ການຕົກແຕ່ງ, ຊິ້ນສ່ວນລົດໃຫຍ່, ແກ້ວຕ່ໍາ E, ວົງຈອນປະສົມປະສານ semi-conductor, ຮູບເງົາບາງໆ. ຄວາມຕ້ານທານ, ຈໍສະແດງຜົນກາຟິກ, ຍານອາວະກາດ, ການບັນທຶກແມ່ເຫຼັກ, ຫນ້າຈໍສໍາຜັດ, ຫມໍ້ໄຟແສງຕາເວັນຮູບເງົາບາງໆແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອື່ນໆຂອງ vapor deposition (PVD).ກະລຸນາສົ່ງພວກເຮົາສອບຖາມສໍາລັບລາຄາໃນປະຈຸບັນກ່ຽວກັບເປົ້າຫມາຍ sputtering ແລະອຸປະກອນການເງິນຝາກອື່ນໆທີ່ບໍ່ມີຢູ່ໃນລາຍການ.