NiCrAlSi Sputtering ເປົ້າໝາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງ ການເຄືອບ Pvd ບາງໆ Custom Made

NiCrAlSi Sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນຜະລິດໂດຍການລະລາຍສູນຍາກາດ, ການຫລໍ່ແລະການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນເພື່ອຮັບປະກັນຄວາມສອດຄ່ອງສູງ, ຂະຫນາດເມັດອັນດີງາມແລະປະສິດທິພາບທີ່ດີ.

ເນື່ອງຈາກຄວາມຕ້ານທານສູງທີ່ດີເລີດ, ພຶດຕິກໍາການຕ້ານການກັດກ່ອນທີ່ດີ, ຄວາມທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງແລະການເຊື່ອມໂລຫະ, ໂລຫະປະສົມ Nickel Chromium Aluminum Silicon ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການນໍາໃຊ້ອຸດສາຫະກໍາຈໍານວນຫຼາຍ, ລວມທັງໂລຫະໂລຫະ, ການຜະລິດກົນຈັກ, ແລະເຄື່ອງໃຊ້ໃນຄົວເຮືອນ.

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດ Sputtering ເປົ້າຫມາຍແລະສາມາດຜະລິດ Nickel Chromium Aluminum Silicon Sputtering Materials ຕາມການກໍານົດຂອງລູກຄ້າ.ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.