CoFeV ໂລຫະປະສົມ Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງການເຄືອບ Pvd ແຜ່ນບາງໆ Custom Made

Cobalt Iron Vanadium sputtering target ມີ 52% ເນື້ອໃນຂອງ Cobalt, 9% -23% ເນື້ອໃນຂອງ Vanadium ແລະສ່ວນທີ່ເຫຼືອ - ductile permanent-magnetic material .ມັນສະແດງຄວາມສາມາດໃນການບິດເບືອນຂອງພາດສະຕິກທີ່ດີເລີດແລະສາມາດຜະລິດເຂົ້າໄປໃນອົງປະກອບທີ່ມີຮູບແບບທີ່ສັບສົນ.

Cobalt Iron Vanadium sputtering ເປົ້າຫມາຍມີຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງ flux ການອີ່ມຕົວສູງ Bs (2.4T) ແລະອຸນຫະພູມ Curie (980 ~ 1100 ℃).ມັນສາມາດຊ່ວຍໃນການຫຼຸດຜ່ອນນ້ໍາຫນັກແລະສາມາດປັບປຸງຄວາມຫມັ້ນຄົງໃນອຸນຫະພູມສູງ.ມັນ​ເປັນ​ອຸ​ປະ​ກອນ​ທີ່​ເຫມາະ​ສົມ​ສໍາ​ລັບ​ເຄື່ອງ​ໃຊ້​ໄຟ​ຟ້າ​ການ​ບິນ (ເຄື່ອງ​ໄຟ​ຟ້າ​ພິ​ເສດ​ຂະ​ຫນາດ​ນ້ອຍ​, ແມ່​ເຫຼັກ​ໄຟ​ຟ້າ​ແລະ relay ໄຟ​ຟ້າ​)​.ມັນຍັງມີຕົວຄູນ magnetostriction ການອີ່ມຕົວສູງ, ແລະສາມາດຜະລິດ transducer magnetostrictive.

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດ Sputtering ເປົ້າຫມາຍແລະສາມາດຜະລິດ Cobalt Iron Vanadium Sputtering Materials ຕາມການກໍານົດຂອງລູກຄ້າ.ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.