CoPt Alloy Sputtering Target ຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd Coating Custom Made

Cobalt Platinum sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນ fabricated ໂດຍວິທີການຂອງການລະລາຍສູນຍາກາດ.ໂລຫະປະສົມ Cobalt-platinum ແມ່ນໃຊ້ຕາມປົກກະຕິສໍາລັບຈຸດປະສົງແມ່ເຫຼັກແລະການນໍາໃຊ້ຈໍານວນຫລາຍທີ່ມີຢູ່ໃນທີ່ປະສິດທິພາບທີ່ໂດດເດັ່ນຂອງໂລຫະປະສົມ equi-atomic justifies ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍພື້ນຖານສູງຂອງຕົນ.ບໍ່ມີໂລຫະປະສົມອື່ນໆຂອງຄຸນສົມບັດສະນະແມ່ເຫຼັກທີ່ສົມທຽບແມ່ນສາມາດເຮັດວຽກໄດ້, ແລະຄວາມຈິງທີ່ວ່າ cobalt-platinum ສາມາດໄດ້ຮັບການສະຫນອງໃນຮູບແບບຂອງ rod, ແຜ່ນ, foil ຫຼືສາຍໄດ້ຮັບປະກັນອຸປະກອນການນີ້ເປັນຕໍາແຫນ່ງເປັນເອກະລັກໃນພາກສະຫນາມເຄື່ອງມື.ມັນຖືກນໍາໃຊ້ຕົ້ນຕໍເປັນຫົວແມ່ເຫຼັກຂອງຫນ່ວຍງານຮາດດິດໄດທີ່ສາມາດບັນທຶກຂໍ້ມູນທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງການບັນທຶກສູງ.

ພວກເຮົາສາມາດສະຫນອງເປົ້າຫມາຍ Cobalt Platinum ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ຄວາມສອດຄ່ອງ, ຄວາມກົມກຽວກັນ, ແລະຄວາມບໍ່ສະອາດຕ່ໍາ.ພວກເຮົາສາມາດສະເຫນີຄຸນນະພາບສູງດ້ວຍລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນ.

ວັດສະດຸພິເສດທີ່ອຸດົມສົມບູນແມ່ນຜູ້ຜະລິດ Sputtering ເປົ້າຫມາຍແລະສາມາດຜະລິດ Cobalt Platinum Sputtering Materials ຕາມການກໍານົດຂອງລູກຄ້າ.ສໍາລັບຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ, ກະລຸນາຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ.