ຂາຍສົ່ງ CrAlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer and Supplier |ອຸດົມສົມບູນ

Chrome ອະລູມິນຽມຊິລິໂຄນ

CrAlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made Featured Image

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ປະເພດ	Alloy Sputtering ເປົ້າຫມາຍ
ສູດເຄມີ	CrAlSi
ອົງປະກອບ	ຊິລິໂຄນອາລູມິນຽມ Chrome
ຄວາມບໍລິສຸດ	99.9%, 99.95%, 99.99%
ຮູບຮ່າງ	ແຜ່ນ, ເປົ້າໝາຍຖັນ, cathodes ໂຄ້ງ, ເຮັດເອງ
ຂະບວນການຜະລິດ	ການລະລາຍສູນຍາກາດ, PM
ຂະໜາດທີ່ສາມາດໃຊ້ໄດ້	L≤1000mm,W≤200mm

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍສິນຄ້າ

Chronium Aluminum Silicon Sputtering ລາຍລະອຽດເປົ້າຫມາຍ

ການຜະລິດຂອງ Chronium Aluminum Silicon Sputtering Targets ປະກອບດ້ວຍຂັ້ນຕອນດັ່ງຕໍ່ໄປນີ້:
1.ສູນຍາກາດ melting ຂອງ Silicon, ອະລູມິນຽມແລະ Chronium ເພື່ອໃຫ້ໄດ້ຮັບໂລຫະປະສົມຂັ້ນຕອນ.
2.ຜົງແລະເຄື່ອງປະສົມ.
3.Hot isostatic ກົດການປິ່ນປົວເພື່ອໃຫ້ໄດ້ຮັບ chromium ອະລູມິນຽມ silicon ໂລຫະປະສົມ sputtering ເປົ້າຫມາຍ.
Chronium ອະລູມິນຽມຊິລິໂຄນ Sputtering ເປົ້າຫມາຍຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນເຄື່ອງມືຕັດແລະ molds, ເນື່ອງຈາກຄວາມຕ້ານທານການສວມໃສ່ຂອງຕົນແລະການຕໍ່ຕ້ານການຜຸພັງຂອງອຸນຫະພູມສູງເພື່ອປັບປຸງປະສິດທິພາບຮູບເງົາ.
ໄລຍະ Si3N4 amorphous ຈະຖືກສ້າງຕັ້ງຂຶ້ນໃນລະຫວ່າງຂະບວນການ PVD ຂອງເປົ້າຫມາຍ CrAlSi.ເນື່ອງຈາກການລວມຕົວຂອງໄລຍະ Si3N4 amorphous, ການຂະຫຍາຍຕົວຂອງຂະຫນາດເມັດສາມາດຖືກຍັບຍັ້ງແລະປັບປຸງຄຸນສົມບັດການຕໍ່ຕ້ານການຜຸພັງຂອງອຸນຫະພູມສູງ.

Chronium ອະລູມິນຽມ Silicon Sputtering ການຫຸ້ມຫໍ່ເປົ້າຫມາຍ

ເປົ້າໝາຍສະເປເຕີ Chronium ອະລູມີນຽມຊິລິໂຄນຂອງພວກເຮົາຖືກຕິດປ້າຍໄວ້ຢ່າງຊັດເຈນ ແລະຕິດສະຫຼາກຈາກພາຍນອກເພື່ອຮັບປະກັນການກໍານົດຕົວຕົນທີ່ມີປະສິດທິພາບ ແລະການຄວບຄຸມຄຸນນະພາບ.ມີຄວາມລະມັດລະວັງຫຼາຍເພື່ອຫຼີກລ່ຽງຄວາມເສຍຫາຍທີ່ອາດຈະເກີດຂຶ້ນໃນລະຫວ່າງການເກັບຮັກສາ ຫຼືການຂົນສົ່ງ

ໄດ້ຮັບການຕິດຕໍ່

RSM ຂອງ Chronium Aluminum sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນມີຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະເປັນເອກະພາບ.ພວກເຂົາເຈົ້າມີຢູ່ໃນຮູບແບບຕ່າງໆ, ຄວາມບໍລິສຸດ, ຂະຫນາດ, ແລະລາຄາ.ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດວັດສະດຸເຄືອບຟິມບາງທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງດ້ວຍປະສິດທິພາບທີ່ດີເລີດເຊັ່ນດຽວກັນກັບຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງເມັດພືດສະເລ່ຍຂະຫນາດນ້ອຍທີ່ສຸດທີ່ເປັນໄປໄດ້ສໍາລັບການນໍາໃຊ້ໃນການເຄືອບ mold, ການຕົກແຕ່ງ, ຊິ້ນສ່ວນລົດໃຫຍ່, ແກ້ວຕ່ໍາ E, ວົງຈອນປະສົມປະສານ semi-conductor, ຮູບເງົາບາງໆ. ຄວາມຕ້ານທານ, ຈໍສະແດງຜົນກາຟິກ, ຍານອາວະກາດ, ການບັນທຶກແມ່ເຫຼັກ, ຫນ້າຈໍສໍາຜັດ, ຫມໍ້ໄຟແສງຕາເວັນຮູບເງົາບາງໆແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອື່ນໆຂອງ vapor deposition (PVD).ກະລຸນາສົ່ງພວກເຮົາສອບຖາມສໍາລັບລາຄາໃນປະຈຸບັນກ່ຽວກັບເປົ້າຫມາຍ sputtering ແລະອຸປະກອນການເງິນຝາກອື່ນໆທີ່ບໍ່ມີຢູ່ໃນລາຍການ.

ທີ່ຜ່ານມາ: CrSi Alloy Sputtering Target ຄວາມບໍລິສຸດສູງ ແຜ່ນບາງໆ Pvd Coating Custom Made

ຕໍ່ໄປ: AlCr ໂລຫະປະສົມ Sputtering ເປົ້າຫມາຍຄວາມບໍລິສຸດສູງການເຄືອບ Pvd ແຜ່ນບາງໆ Custom Made