ສໍາລັບພາກສະຫນາມຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງ sputtering ເປົ້າຫມາຍ,ວິສະວະກອນ RSM ຈະໃຫ້ຄໍາແນະນໍາສັ້ນໆໃນບົດຄວາມຕໍ່ໄປນີ້.Sputtering ເປົ້າຫມາຍຖືກນໍາໃຊ້ຕົ້ນຕໍໃນອຸດສາຫະກໍາເອເລັກໂຕຣນິກແລະຂໍ້ມູນຂ່າວສານ, ເຊັ່ນ: ວົງຈອນປະສົມປະສານ, ການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນຂ່າວສານ, ການສະແດງໄປເຊຍກັນຂອງແຫຼວ, ຫນ່ວຍຄວາມຈໍາ laser, ອຸປະກອນຄວບຄຸມເອເລັກໂຕຣນິກ, ແລະອື່ນໆ;ມັນຍັງສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ໃນພາກສະຫນາມຂອງການເຄືອບແກ້ວ;ມັນຍັງສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ໃນວັດສະດຸທົນທານຕໍ່ພັຍ, ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ອຸນຫະພູມສູງ, ຜະລິດຕະພັນຕົກແຕ່ງຊັ້ນສູງແລະອຸດສາຫະກໍາອື່ນໆ.
ອຸດສາຫະກໍາການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນ: ດ້ວຍການພັດທະນາຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງຂອງອຸດສາຫະກໍາ IT, ຄວາມຕ້ອງການຂອງໂລກສໍາລັບສື່ບັນທຶກແມ່ນເພີ່ມຂຶ້ນ, ແລະການຄົ້ນຄວ້າແລະການຜະລິດເປົ້າຫມາຍສໍາລັບສື່ບັນທຶກໄດ້ກາຍເປັນຫົວຂໍ້ຮ້ອນ.ໃນອຸດສາຫະກໍາການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນຂ່າວສານ, ຜະລິດຕະພັນຮູບເງົາບາງທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກະກຽມໂດຍ sputtering ເປົ້າຫມາຍປະກອບມີຮາດດິດ, ຫົວແມ່ເຫຼັກ, optical disk ແລະອື່ນໆ.ການຜະລິດຜະລິດຕະພັນການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນເຫຼົ່ານີ້ຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີການນໍາໃຊ້ເປົ້າຫມາຍທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ມີ crystallinity ພິເສດແລະອົງປະກອບພິເສດ.ການນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປແມ່ນ cobalt, chromium, ກາກບອນ, nickel, ທາດເຫຼັກ, ໂລຫະປະເສີດ, ໂລຫະຫາຍາກ, ວັດສະດຸ dielectric, ແລະອື່ນໆ.
ອຸດສາຫະກໍາວົງຈອນປະສົມປະສານ: ເປົ້າຫມາຍສໍາລັບວົງຈອນປະສົມປະສານກວມເອົາສ່ວນແບ່ງຂະຫນາດໃຫຍ່ໃນສູນການຄ້າເປົ້າຫມາຍທົ່ວໂລກ.ຜະລິດຕະພັນ sputtering ຂອງເຂົາເຈົ້າສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນປະກອບດ້ວຍຮູບເງົາເຊື່ອມຕໍ່ electrode, ຮູບເງົາອຸປະສັກ, ຮູບເງົາຕິດຕໍ່, ຫນ້າກາກແຜ່ນ optical, ຮູບເງົາ capacitor electrode ແລະຮູບເງົາຕໍ່ຕ້ານ.
ເວລາປະກາດ: 27-05-2022