ທ່ານມີຄວາມຊັດເຈນກ່ຽວກັບເປົ້າຫມາຍການເຄືອບ magnetron sputtering?ຕອນນີ້ໃຫ້ພວກເຮົາແບ່ງປັນຄວາມຮູ້ສຶກທົ່ວໄປບາງຢ່າງກ່ຽວກັບເປົ້າຫມາຍ sputtering magnetron ກັບທ່ານ.
ເປົ້າໝາຍການເຄືອບ sputtering ໂລຫະ, ເປົ້າໝາຍການເຄືອບ sputtering ໂລຫະປະສົມ, ເປົ້າໝາຍການເຄືອບ ceramic sputtering, ເປົ້າໝາຍ sputtering ceramic boride, carbide ceramic sputtering target, fluoride ceramic sputtering target, nitride ceramic sputtering target, ເປົ້າໝາຍ oxide ceramic, selenide ceramic sputtering target, silicide ceramic sputtering target, sulfide ceramic sputtering target, telluride ceramic sputtering target, ເປົ້າໝາຍເຊລາມິກອື່ນໆ, Chromium doped silicon oxide ceramic target (CR SiO), indium phosphide target (INP), lead arsenide target (pbas), indium arsenide target (InAs).
ຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງເປົ້າຫມາຍການກໍ່ສ້າງປະກອບມີ:
Sputtering ເປົ້າໝາຍ (ຄວາມບໍລິສຸດ: 99.9% – 99.999%)
1. ເປົ້າໝາຍໂລຫະ:
ເປົ້າຫມາຍ nickel, Ni, ເປົ້າຫມາຍ titanium, Ti, ເປົ້າຫມາຍສັງກະສີ, Zn, chromium ເປົ້າຫມາຍ, Cr, ເປົ້າຫມາຍ magnesium, Mg, ເປົ້າຫມາຍ niobium, Nb, ເປົ້າຫມາຍ tin, Sn, ເປົ້າຫມາຍອາລູມິນຽມ, Al, ເປົ້າຫມາຍ indium, ໃນ, ເປົ້າຫມາຍທາດເຫຼັກ, Fe, zirconium ເປົ້າຫມາຍອາລູມິນຽມ, zral, ເປົ້າຫມາຍອາລູມິນຽມ titanium, TiAl, zirconium ເປົ້າຫມາຍ, Zr, ເປົ້າຫມາຍຊິລິໂຄນອະລູມິນຽມ, AlSi, ເປົ້າຫມາຍຊິລິໂຄນ, Si, ເປົ້າຫມາຍທອງແດງ, Cu, ເປົ້າຫມາຍ tantalum, t, a, ເປົ້າຫມາຍເຍຍລະມັນ, Ge, ເປົ້າຫມາຍເງິນ, Ag, ເປົ້າໝາຍ cobalt, Co, ເປົ້າໝາຍທອງ, Au, ເປົ້າໝາຍ gadolinium, Gd, ເປົ້າໝາຍ lanthanum, La, ເປົ້າໝາຍ yttrium, y, ເປົ້າໝາຍ cerium, CE, ເປົ້າໝາຍ tungsten, W, ເປົ້າໝາຍສະແຕນເລດ, ເປົ້າໝາຍ nickel chromium NiCr, ເປົ້າໝາຍ hafnium, HF, molybdenum ເປົ້າຫມາຍ, Mo, ເປົ້າຫມາຍ nickel ທາດເຫຼັກ, FeNi, ເປົ້າຫມາຍ tungsten, W, ແລະອື່ນໆ.
2. ເປົ້າໝາຍເຊລາມິກ
ເປົ້າໝາຍ ITO, ເປົ້າໝາຍ magnesium oxide, ເປົ້າໝາຍອອກໄຊທາດເຫຼັກ, ເປົ້າໝາຍ silicon nitride, ເປົ້າໝາຍ silicon carbide, ເປົ້າໝາຍ titanium nitride, chromium oxide target, zinc oxide target, zinc sulfide target, silicon dioxide target, silicon oxide target, cerium oxide target, zirconium dioxide target , ເປົ້າໝາຍ niobium pentoxide, ເປົ້າໝາຍ titanium dioxide, ເປົ້າໝາຍ zirconium dioxide, ເປົ້າໝາຍ hafnium dioxide, ເປົ້າໝາຍ titanium diboride, ເປົ້າໝາຍ zirconium diboride, ເປົ້າໝາຍ tungsten trioxide, ເປົ້າໝາຍອາລູມີນຽມ trioxide, ເປົ້າໝາຍ tantalum pentoxide, ເປົ້າໝາຍ niobium pentoxide, magnesium fluoride target Yttrium selenten, zinc fluoride, ເປົ້າໝາຍ, ເປົ້າໝາຍອາລູມີນຽມ nitride, ເປົ້າໝາຍ silicon nitride, ເປົ້າໝາຍ boron nitride, ເປົ້າໝາຍ titanium nitride, ເປົ້າໝາຍ silicon carbide, ເປົ້າໝາຍ lithium niobate, ເປົ້າໝາຍ praseodymium titanate, ເປົ້າໝາຍ barium titanate, ເປົ້າໝາຍ lanthanum titanate, ເປົ້າໝາຍ nickel oxide, ເປົ້າໝາຍ sputtering, ແລະອື່ນໆ.
ເວລາປະກາດ: 23-05-2022