ວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍທີ່ໃຊ້ໃນອຸດສາຫະກໍາການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ແລະ impurities ແລະ pores ຕ້ອງໄດ້ຮັບການຫຼຸດລົງເພື່ອຫຼີກເວັ້ນການຜະລິດຂອງ impurity particles ໃນລະຫວ່າງການ sputtering.ອຸປະກອນການເປົ້າຫມາຍທີ່ນໍາໃຊ້ສໍາລັບຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງຮຽກຮ້ອງໃຫ້ຂະຫນາດຂອງແກນໄປເຊຍກັນຂອງມັນຕ້ອງມີຂະຫນາດນ້ອຍແລະເປັນເອກະພາບ, ແລະບໍ່ມີການວາງທິດທາງຂອງຜລຶກ.ຂ້າງລຸ່ມນີ້, ໃຫ້ພິຈາລະນາຄວາມຕ້ອງການຂອງອຸດສາຫະກໍາການເກັບຮັກສາ optical ສໍາລັບວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍ?
1. ຄວາມບໍລິສຸດ
ໃນການປະຕິບັດຕົວຈິງ, ຄວາມບໍລິສຸດຂອງວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍແມ່ນແຕກຕ່າງກັນໄປຕາມອຸດສາຫະກໍາແລະຄວາມຕ້ອງການທີ່ແຕກຕ່າງກັນ.ຢ່າງໃດກໍ່ຕາມ, ໂດຍລວມແລ້ວ, ຄວາມບໍລິສຸດສູງຂອງວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍ, ການປະຕິບັດຂອງຮູບເງົາ sputtered ທີ່ດີກວ່າ.ຕົວຢ່າງ, ໃນອຸດສາຫະກໍາການເກັບຮັກສາ optical, ຄວາມບໍລິສຸດຂອງວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍແມ່ນຕ້ອງການຫຼາຍກ່ວາ 3N5 ຫຼື 4N.
2. ເນື້ອໃນ impurity
ອຸປະກອນການເປົ້າຫມາຍເຮັດຫນ້າທີ່ເປັນແຫຼ່ງ cathode ໃນ sputtering, ແລະ impurities ໃນແຂງແລະອົກຊີເຈນແລະ vapor ນ້ໍາໃນຮູຂຸມຂົນແມ່ນແຫຼ່ງມົນລະພິດຕົ້ນຕໍສໍາລັບການຝາກຮູບເງົາບາງໆ.ນອກຈາກນັ້ນ, ມີຄວາມຕ້ອງການພິເສດສໍາລັບເປົ້າຫມາຍຂອງການນໍາໃຊ້ທີ່ແຕກຕ່າງກັນ.ເອົາອຸດສາຫະກໍາການເກັບຮັກສາ optical ເປັນຕົວຢ່າງ, ເນື້ອໃນ impurity ໃນ sputtering ເປົ້າຫມາຍຕ້ອງໄດ້ຮັບການຄວບຄຸມຕ່ໍາຫຼາຍເພື່ອຮັບປະກັນຄຸນນະພາບຂອງການເຄືອບ.
3. ການແຜ່ກະຈາຍຂະຫນາດເມັດພືດແລະຂະຫນາດ
ປົກກະຕິແລ້ວ, ວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍມີໂຄງສ້າງ polycrystalline, ມີຂະຫນາດເມັດພືດຕັ້ງແຕ່ micrometers ເຖິງ millimeters.ສໍາລັບເປົ້າຫມາຍທີ່ມີອົງປະກອບດຽວກັນ, ອັດຕາການ sputtering ຂອງເປົ້າຫມາຍເມັດພືດທີ່ດີແມ່ນໄວກວ່າເປົ້າຫມາຍເມັດພືດຫຍາບ.ສໍາລັບເປົ້າຫມາຍທີ່ມີຄວາມແຕກຕ່າງຂະຫນາດເມັດຂະຫນາດນ້ອຍກວ່າ, ຄວາມຫນາຂອງຮູບເງົາທີ່ຝາກໄວ້ຍັງຈະເປັນເອກະພາບຫຼາຍ.
4. ຄວາມຫນາແຫນ້ນ
ເພື່ອຫຼຸດຜ່ອນ porosity ໃນວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍແຂງແລະປັບປຸງປະສິດທິພາບຂອງຮູບເງົາ, ມັນຈໍາເປັນຕ້ອງໄດ້ໂດຍທົ່ວໄປອຸປະກອນເປົ້າຫມາຍ sputtering ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນສູງ.ຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຂຶ້ນກັບຂະບວນການກະກຽມ.ວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍທີ່ຜະລິດໂດຍວິທີການລະລາຍແລະການຫລໍ່ສາມາດຮັບປະກັນວ່າບໍ່ມີຮູຂຸມຂົນພາຍໃນວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນແມ່ນສູງຫຼາຍ.
ເວລາປະກາດ: ກໍລະກົດ-18-2023