ດ້ວຍການພັດທະນາຂອງສັງຄົມແລະສະຕິປັນຍາຂອງປະຊາຊົນ, ເປົ້າຫມາຍ sputtering ໄດ້ຮັບຮູ້, ຮັບຮູ້ແລະຍອມຮັບໂດຍຜູ້ໃຊ້ຫຼາຍຂຶ້ນ, ແລະຕະຫຼາດແມ່ນດີຂຶ້ນແລະດີຂຶ້ນ.ໃນປັດຈຸບັນການມີຢູ່ຂອງເປົ້າຫມາຍ sputtering ສາມາດເຫັນໄດ້ໃນຫຼາຍອຸດສາຫະກໍາແລະພື້ນທີ່ເຮັດວຽກໃນຕະຫຼາດພາຍໃນ.ໃນປັດຈຸບັນບັນນາທິການຂອງ RSM ຈະອະທິບາຍໃຫ້ທ່ານ, ທີ່ອຸດສາຫະກໍາຈະນໍາໃຊ້ເປົ້າຫມາຍ sputtering ໃນສັງຄົມມື້ນີ້.
Sputtering ເປົ້າຫມາຍຖືກນໍາໃຊ້ຕົ້ນຕໍໃນອຸດສາຫະກໍາເອເລັກໂຕຣນິກແລະຂໍ້ມູນຂ່າວສານ, ເຊັ່ນ: ວົງຈອນປະສົມປະສານ, ການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນຂ່າວສານ, ການສະແດງໄປເຊຍກັນຂອງແຫຼວ, ຫນ່ວຍຄວາມຈໍາ laser, ເຄື່ອງຄວບຄຸມເອເລັກໂຕຣນິກ, ແລະອື່ນໆ;ມັນຍັງສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ໃນພາກສະຫນາມຂອງການເຄືອບແກ້ວ;ມັນຍັງສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ກັບວັດສະດຸທີ່ທົນທານຕໍ່ພັຍ, ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ອຸນຫະພູມສູງ, ຜະລິດຕະພັນຕົບແຕ່ງຊັ້ນສູງແລະອາຊີບອື່ນໆ.
ອຸດສາຫະກໍາການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນຂ່າວສານ: ດ້ວຍການພັດທະນາຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງຂອງອຸດສາຫະກໍາ IT, ຄວາມຕ້ອງການຂອງສາກົນສໍາລັບສື່ບັນທຶກແມ່ນເພີ່ມຂຶ້ນ, ແລະການຄົ້ນຄວ້າແລະການຜະລິດເປົ້າຫມາຍຂອງສື່ບັນທຶກໄດ້ກາຍເປັນຈຸດຮ້ອນ.ໃນອຸດສາຫະກໍາການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນຂ່າວສານ, ຜະລິດຕະພັນຮູບເງົາບາງທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກະກຽມໂດຍ sputtering ເປົ້າຫມາຍປະກອບມີຮາດດິດ, ຫົວແມ່ເຫຼັກ, optical disk ແລະອື່ນໆ.ການຜະລິດຜະລິດຕະພັນການເກັບຮັກສາຂໍ້ມູນເຫຼົ່ານີ້ຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີການນໍາໃຊ້ເປົ້າຫມາຍທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ມີ crystallinity ພິເສດແລະອົງປະກອບພິເສດ.ການນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປແມ່ນ cobalt, chromium, ກາກບອນ, nickel, ທາດເຫຼັກ, ໂລຫະປະເສີດ, ໂລຫະຫາຍາກ, ວັດສະດຸ dielectric, ແລະອື່ນໆ.
ອຸດສາຫະກໍາວົງຈອນປະສົມປະສານ: ເປົ້າຫມາຍສໍາລັບວົງຈອນປະສົມປະສານກວມເອົາສ່ວນແບ່ງຂະຫນາດໃຫຍ່ໃນສູນການຄ້າເປົ້າຫມາຍທົ່ວໂລກ.ຜະລິດຕະພັນ sputtering ຂອງເຂົາເຈົ້າສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນປະກອບດ້ວຍຮູບເງົາເຊື່ອມຕໍ່ electrode, ຮູບເງົາ barrier, ຮູບເງົາສໍາຜັດ, optical disc mask, capacitor electrode film, ຮູບເງົາຕໍ່ຕ້ານ, ແລະອື່ນໆ. ປະລິມານຂອງໂລຫະປະສົມ Ni – Cr ໃນເປົ້າຫມາຍສໍາລັບຮູບເງົາຕ້ານທານແມ່ນຂະຫນາດໃຫຍ່ຫຼາຍ.
ເວລາປະກາດ: ພຶດສະພາ-19-2022