ການປະຕິບັດເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກ

ເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກມີຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຂົງເຂດເຊັ່ນ: semiconductors, ຈໍສະແດງຜົນ, photovoltaics, ແລະການບັນທຶກແມ່ເຫຼັກ.ເປົ້າໝາຍເຊລາມິກອອກໄຊ, ເຊລາມິກຊິລິໂຄນ, ເປົ້າໝາຍເຊລາມິກ nitride, ເປົ້າໝາຍເຊລາມິກປະສົມ, ແລະເປົ້າໝາຍເຊລາມິກ sulfide ແມ່ນປະເພດທົ່ວໄປຂອງເປົ້າໝາຍເຊລາມິກ.ໃນບັນດາພວກເຂົາ, ເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກ oxide ມີລັກສະນະເຊັ່ນ: ຈຸດ melting ສູງ, insulation ທີ່ດີເລີດ, ແລະການຕໍ່ຕ້ານຄວາມຮ້ອນ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບເປົ້າຫມາຍ sputtering ceramic ກ້າວຫນ້າທາງດ້ານແລະ semiconductor ເປົ້າຫມາຍ ceramic ທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ.ເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກ Silicide ມີລັກສະນະຄວາມແຂງສູງແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງທາງເຄມີທີ່ດີ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການສະແດງເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກແລະເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບ semiconductor.ເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກ nitride ມີລັກສະນະຂອງຄວາມແຂງສູງແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນທີ່ດີ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການສະແດງເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກແລະ semiconductor ເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບ.ເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກ sulfide ມີຄວາມແຂງສູງແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງທາງເຄມີທີ່ດີ, ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການສະແດງເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກແລະ semiconductor ທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກ.

ດັ່ງນັ້ນ, ເປົ້າຫມາຍເຊລາມິກມີຄວາມສົດໃສດ້ານການນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຂົງເຂດເຊັ່ນ: semiconductors, ຈໍສະແດງຜົນ, photovoltaics, ແລະການບັນທຶກແມ່ເຫຼັກ.