ການນຳໃຊ້ເປົ້າໝາຍ AZO Sputtering

ເປົ້າຫມາຍ sputtering AZO ຍັງຖືກເອີ້ນວ່າເປັນເປົ້າຫມາຍ sputtering ສັງກະສີອາລູມິນຽມ doped.ອາລູມີນຽມ doped zinc oxide ເປັນ oxide conducting ໂປ່ງໃສ.ຜຸພັງນີ້ແມ່ນບໍ່ລະລາຍໃນນ້ໍາແຕ່ມີຄວາມຫມັ້ນຄົງດ້ານຄວາມຮ້ອນ.ໂດຍທົ່ວໄປແລ້ວ AZO sputtering targets ແມ່ນຖືກໃຊ້ສໍາລັບການຊຶມເຊື້ອຂອງຮູບເງົາບາງໆ. ສະນັ້ນ ປະເພດໃດແດ່ທີ່ເຂົາເຈົ້າໃຊ້ເປັນຕົ້ນຕໍ?ຕອນນີ້ໃຫ້ບັນນາທິການຈາກ RSM ແບ່ງປັນກັບທ່ານ

ຂົງເຂດຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຕົ້ນຕໍ:

ໂຟໂຕໂວຕ້າຟິມບາງໆ

photovoltaics ຟິມບາງໃຊ້ semiconductors ເພື່ອປ່ຽນແສງສະຫວ່າງເປັນໄຟຟ້າ.ໃນກໍລະນີນີ້, ເປົ້າຫມາຍ sputtering AZO ສະຫນອງປະລໍາມະນູເປົ້າຫມາຍ AZO ທີ່ໃຊ້ເພື່ອເຮັດໃຫ້ຮູບເງົາບາງໆຢູ່ໃນ photovoltaic.ຊັ້ນຮູບເງົາບາງໆ AZO ອະນຸຍາດໃຫ້ໂຟຕອນເຂົ້າໄປໃນຈຸລັງແສງຕາເວັນ.ໂຟຕອນສ້າງອິເລັກຕອນທີ່ຮູບເງົາບາງໆ AZO ຂົນສົ່ງ.

ຈໍສະແດງຜົນຂອງ Liquid-Crystal (LCDs)

ບາງຄັ້ງ AZO sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນໃຊ້ໃນການເຮັດ LCDs.ເຖິງແມ່ນວ່າ OLEDs ຄ່ອຍໆປ່ຽນຈໍ LCD, LCDs ຖືກນໍາໃຊ້ໃນການສ້າງຈໍຄອມພິວເຕີ, ຫນ້າຈໍໂທລະທັດ, ຫນ້າຈໍໂທລະສັບ, ກ້ອງຖ່າຍຮູບດິຈິຕອນ, ແລະແຜງເຄື່ອງມື.ໂດຍທົ່ວໄປພວກມັນບໍ່ບໍລິໂພກພະລັງງານຫຼາຍແລະດັ່ງນັ້ນຈຶ່ງບໍ່ປ່ອຍຄວາມຮ້ອນຫຼາຍ.ນອກຈາກນັ້ນ, ເນື່ອງຈາກວ່າ AZO ແມ່ນບໍ່ມີສານພິດ, LCDs ບໍ່ປ່ອຍລັງສີທີ່ເປັນພິດ.

ໄດໂອດປ່ອຍແສງ (LEDs)

ໄຟ LED ເປັນ semiconductor ທີ່ຜະລິດແສງສະຫວ່າງໃນເວລາທີ່ປະຈຸບັນໄຫຼຜ່ານມັນ.ນັບຕັ້ງແຕ່ອາລູມິນຽມ doped zinc oxide ເປັນ semiconductor ທີ່ມີການນໍາໄຟຟ້າສູງແລະການຖ່າຍທອດທາງ optical, ມັນມັກຈະຖືກນໍາໃຊ້ໃນການສ້າງ LEDs.LEDs ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບການສະຫວ່າງ, ສັນຍານ, ການສົ່ງຂໍ້ມູນ, ລະບົບວິໄສທັດຂອງເຄື່ອງຈັກ, ແລະແມ້ກະທັ້ງການຊອກຄົ້ນຫາທາງຊີວະພາບ.

ການເຄືອບສະຖາປັດຕະຍະກໍາ

ເປົ້າຫມາຍ sputtering AZO ຖືກນໍາໃຊ້ໃນການເຄືອບສະຖາປັດຕະຍະກໍາຕ່າງໆ.ພວກເຂົາເຈົ້າສະຫນອງປະລໍາມະນູເປົ້າຫມາຍສໍາລັບການເຄືອບສະຖາປັດຕະ.